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반도체 전극의 제조방법과 반도체 전극을 포함하는 염료감응 태양전지

기술개요

본 기술은 반도체 전극의 제조방법 및 이러한 방법에 의해서 제조된 반도체 전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 2종 이상의 서로 다른 염료를 금속산화물 나노입자에 흡착시킴으로써 나노입자 복합체를 제조하고, 2종 이상의 염료-금속산화물 나노입자 복합체를 유기용매 중에 혼합 분산시킨 후 투명 전도성 기판 상에 도포 후 투명 전도성 기판 상에 도포된 염료-금속산화물 나노입자 복합체를 압착시키는 반도체 전극의 제조방법과 반도체 전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것임

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반사 방지층을 이용한 유기감응 태양전지 제조 방법

기술개요

본 기술은 반사 방지층을 이용한 유기감응 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로 유기감응 태양전지의 전압 변환 효율을 증대시키기 위해 나노 와이어의 이산화 타이타늄을 포함하는 반사 방지층과 이산화 타이타늄을 포함하는 광활성층을 형성하여 이중의 이산화 타이타늄층을 가지는 유기감응 태양전지 기술임

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태양광을 이용한 자가 충전이 가능한 하이브리드 자가 충전 전지

기술개요

본 기술은 하이브리드 자가 충전 전지 및 이의 제조방법으로서 태양광을 이용하여 자가 충전이 가능하고, 과충전을 방지할 수 있을 뿐 아니라, 별도의 중간 제어장치가 필요 없어 부피, 무게 및 두께를 최소화 할 수 있다. 또한, 가교 고분자 매트릭스를 포함함으로써, 적절한 기계적 강도를 유지하면서 우수한 유연성을 가질 수 있어 플렉서블 전지를 제조 할 수 있다.

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니켈(Ⅱ) 착물 유래 3차원 메조기공 그래핀 제조 방법

기술개요

본 기술은 니켈(II) 착물 유래 3차원 메조기공 그래핀 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 니켈(II) 착물의 열분해를 통하여 메조기공 그래핀/니켈 복합체를 형성한 후, 이를 에칭하는 간단한 공정으로 고품질의 3차원 메조기공 그래핀을 제조하고, 이를 재생 연료전지 및 금속공기 이차전지용 이작용성 촉매로 응용하는 기술에 관한 것이다.

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양극 활물질 및 이의 제조 방법, 그리고 상기 양극을 포함하는 전기화학 소자

기술개요

고용량/고출력 리튬이차전지 개발을 위해서는, 전극-전해액 계면 안정성 확보가 필수적임.
본 기술은, 리튬을 삽입 및 탈리할 수 있는 물질, 및 상기 리튬을 삽입 및 탈리할수 있는 물질의 표면에 형성된 코팅층을 포함하고, 상기 코팅층은 화학적으로 가교 (Chemical Crosslinking)된 제 1 고분자, 및 루이스 염기 (Lewis Base)로 작용하는 관능기를 가지는 제 2 고분자를 포함하는 양극 활물질, 이의 제조 방법, 및 상기 양극 활물질을 포함하는 전기 화학 소자에 관한것임.

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이차전지의 효율성을 향상한 양극활물질 제조방법 및 전기화학 소자

기술개요

본 기술은 양극활물질의 제조방법 및 양극을 포함하는 전기화학 소자로 고분자 나노 피막이 코팅된 양극활물질의 열안정성을 개선시키고 우수한 전지수명 특성을 나타낼 수 있다. 또한 결합제와 도전재 없이 활물질 첨가만으로 전기 전도도 및 결착력이 우수한 양극을 제조함으로써 고효율, 장기수명화를 실현할 수 있으며, 출력이 뛰어나 이차전지의 활용성과 실용성을 높일 수 있다.

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뛰어난 발전 출력과 장기 안정성을 가지는 SOFC 전극 소재 개발

기술개요

본 기술은 SOFC의 작동온도를 낮추어 400~800℃의 중온에서 사용하기에 적합한 전극 물질 개발
상대적으로 낮은 온도에서 전기 저항이 작고 출력밀도가 높은 전극 소재 개발로 중온 SOFC 작동 가능

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소재의 안정성을 향상시킨 고체 산화물 연료전지용 캐소드

기술개요

본 기술은 중간 온도 고체 산화물 연료전지용 페로브스카이트 관련 구조를 갖는 캐소드로, 약 400℃ ~ 800℃의 중온에서도 효과적인 작동이 가능하다. 특히, 면적 비저항을 줄이고 캐소드 반응이 일어나는 삼상계면을 증가시킴으로써 산소 환원 반응 속도를 향상시킬 수 있다.

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바이오이미징을 위한 기능성 양자점 제조방법

기술개요

본 기술은 수중 분산 안정성이 우수하고 생체 표적 분자와의 결합이 원활하며 고유의 광학적 성질이 유지될 수 있도록, 양자점을 표면 개질 시킬 수 있는 랜덤 공중합체의 제조방법 및 이를 이용한 양자점의 표면 개질 방법에 관한 것임

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